壹(yi)、紫(zi)外可見分光(guang)光(guang)度(du)計(ji)理(li)化實(shi)驗室(shi)參(can)數
1、光(guang)學(xue)系(xi)統: 消(xiao)色(se)差(cha) Czerny-Turner (1200L/mm grating)
2、波長範(fan)圍(wei) :195-1020nm ;195-1100nm
3、波(bo)長準確度(du): ±2nm；±2nm
4、光(guang)譜(pu)帶寬： 5nm； 4nm
5、波長重(zhong)復(fu)性： 1nm ；1nm
6、雜散(san)光(guang)： ≤0.3%T ； ≤0.2%T@360nm
7、光(guang)度(du)準確性： 0.5%T； 0.5%T
8、光(guang)度(du)重(zhong)復(fu)性(xing) ：0.2%T ；0.2%T
9、光(guang)度(du)範(fan)圍(wei)： 0-200%T，-0.301-2.000A 0-200%T，-0.301-2.000A
10、漂移 ：≤0.2%T； ≤0.1%T
11、基線(xian)直(zhi)線(xian)性(xing)： ±0.004A/h @500nm ；±0.002A/h @500nm
12、噪(zao)聲(sheng)： 100%≤0.3%T ；100%≤0.2%T
13、穩定性(xing) ：±0.004A/h @500nm ；±0.002A/h @500nm
14、工(gong)作(zuo)方式 ：T,A,C； T,A,C
15、顯示範(fan)圍(wei)： 0-200%T, -0.3-2A 0-200%T, -0.3-2A
16、顯示系(xi)統： 4位液(ye)晶LED顯示； 4位液(ye)晶LED顯示
17、調零(ling)方(fang)式 ：自動(dong) ；自(zi)動(dong)
18、波(bo)長驅動(dong) ：手(shou)動(dong) ；手(shou)動(dong)
19、打(da)印(yin)機(ji)（接(jie)口(kou)） ：熱(re)敏(min)打印(yin)機（並(bing)口(kou)）選配； 熱(re)敏(min)打印(yin)機（並(bing)口(kou)）選配
20、能(neng)量(liang)（燈源(yuan)）： 進(jin)口(kou)鎢(wu)燈、 進(jin)口(kou)氘(dao)燈 、進(jin)口(kou)鎢(wu)燈、進(jin)口(kou)氘(dao)燈
21、凈重： 12Kg ；12Kg
22、燈切換方式 ：手(shou)動(dong) ；手(shou)動(dong)
23、單(dan) 色(se) 器：C-T式單色(se)器，1200線(xian)全(quan)息(xi)光(guang)柵(zha)
24、檢(jian) 測 器：矽光(guang)二極管(guan)
25、顯 示 器：128×64大屏(ping)幕(mu)液(ye)晶顯示
26、光(guang) 源(yuan)：鹵鎢(wu)燈20W/12V，氘(dao)燈，在340nm自(zi)動(dong)切(qie)換
27、光(guang)譜(pu)帶寬：4nm
二、紫(zi)外可見分光(guang)光(guang)度(du)計(ji)理(li)化實(shi)驗室(shi)註意(yi)事(shi)項(xiang)
1、使(shi)用的吸(xi)收池(chi)必須潔凈，並(bing)註意(yi)配對(dui)使(shi)用。量(liang)瓶(ping)、移液(ye)吸(xi)管(guan)均(jun)應校正(zheng)、洗(xi)凈後使(shi)用。
2、取吸收池(chi)時，手(shou)指(zhi)應拿毛玻(bo)璃面的兩(liang)側，裝盛(sheng)樣品(pin)以池(chi)體(ti)的4/5為(wei)度(du)，使(shi)用揮(hui)發(fa)性溶液(ye)時應加蓋(gai)，透光(guang)面(mian)要(yao)用擦(ca)鏡(jing)紙由上(shang)而下擦(ca)拭幹凈，檢(jian)視應無(wu)溶劑(ji)殘留。吸收池(chi)放入樣品(pin)室(shi)時應註意(yi)方向(xiang)相(xiang)同。用後(hou)用溶(rong)劑(ji)或水(shui)沖(chong)洗(xi)幹凈，晾(liang)幹防(fang) 塵(chen)保存(cun)。
3、供試(shi)品(pin)溶(rong)液(ye)濃度(du)除(chu)各(ge)該(gai)品(pin)種(zhong)已(yi)有(you)註明(ming)外，其(qi)吸(xi)收度(du)以在0.3～0.7之(zhi)間(jian)為宜(yi)。
4、測定時除(chu)另(ling)有(you)規(gui)定外(wai)，應以配制(zhi)供試(shi)品(pin)溶(rong)液(ye)的同批溶(rong)劑(ji)為(wei)空(kong)白(bai)對(dui)照，采用25px石(shi)英吸收池(chi)，在(zai)規(gui)定的吸(xi)收峰(feng)±2nm以內(nei)，測幾(ji)個(ge)點(dian)的吸(xi)收度(du)或由儀(yi)器在規(gui)定的波(bo)長附近(jin)自(zi)動(dong)掃描(miao)測定，以核對(dui)供試(shi)品(pin)的吸(xi)收峰(feng)位置是(shi)否正(zheng)確，並(bing)以吸收度(du)大的波(bo)長作(zuo)為(wei)測定波(bo)長，除(chu)另(ling)有(you)規(gui)定外(wai)吸(xi)收度(du)大波長應在該(gai)品(pin)種(zhong)項(xiang)下(xia)規(gui)定的測定波(bo)長±2nm以內(nei)。
5、供試(shi)品(pin)應取2份(fen)，如(ru)為對(dui)照品(pin)比(bi)較(jiao)法(fa)，對(dui)照品(pin)壹(yi)般(ban)也應取2份(fen)。平(ping)行操(cao)作，每(mei)份(fen)結(jie)果對(dui)平(ping)均(jun)值的偏(pian)差(cha)應在±0.5%以內(nei)。
6、選用儀(yi)器的狹(xia)縫(feng)寬度(du)應小(xiao)於供試(shi)品(pin)吸(xi)收帶(dai)的半(ban)寬度(du)，否則測得的吸(xi)收度(du)值會偏(pian)低(di)，狹(xia)縫(feng)寬度(du)的選擇應以減少(shao)狹(xia)縫(feng)寬度(du)時供試(shi)品(pin)的吸(xi)收度(du)不(bu)再(zai)增加(jia)為準，對(dui)於大部分被測品(pin)種(zhong)，可(ke)以使(shi)用2nm縫(feng)寬。